028-85197696
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时间：2025-03-16 11:24:06
金融界2024年12月19日消息，国家知识产权局信息显示，上海普达特半导体设备有限公司申请一项名为“清洗装置”的专利，公开号 CN 119133033 A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种清洗装置，包括驱动机构、清洗臂及设置于清洗臂上的管道及若干个喷嘴；清洗臂横向置于工艺腔室内部，若干个喷嘴设置于清洗臂朝向工艺腔室顶板一侧的表面上，管道沿横向埋设于清洗臂内部并与所有喷嘴连通，且管道的一端为开口端以使外部介质从该开口端进入清洗臂中，管道的另一端为封闭端；驱动机构位于工艺腔室外部并与清洗臂传动连接，驱动机构用于驱动清洗臂，以使清洗臂以驱动机构与清洗臂传动连接的传动轴为旋转轴旋转。通过驱动机构驱动清洗臂旋转，并由喷嘴喷出介质实现对工艺腔室顶板的清洗降低甚至避免了化学品废液在工艺腔室顶板的附着，以免化学品废液在制程过程掉落在晶圆表面上形成缺陷影响工艺良率。
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